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防反射膜、透镜以及摄像装置.pdf

摘要
申请专利号:

CN201580052923.4

申请日:

2015.09.07

公开号:

pk10CN106796308A

公开日:

2017。05。31

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/115申请日:20150907|||公开
IPC分类号: G02B1/115; B32B7/02; B32B17/06 主分类号: G02B1/115
申请人: 富士胶片株式会社
发明人: 高桥裕树; 饭田毅
地址: 日本国东京都
优先权: 2014.09.30 JP 2014-202655
专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王亚爱
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法律状态
申请(专利)号:

CN201580052923.4

授权公告号:

||||||

法律状态公告日:

2018。12。14|||2017。06。23|||2017。05。31

法律状态类型:

授权|||实质审查的生效|||公开

摘要

本发明提供一种粘附性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。对光学基材(11)的表面成膜碳氢膜(16),作为以高折射率层发挥功能的第1层(12)。在第1层(12)上成膜折射率低于第1层(12)的折射率的MgF2膜(17),作为以低折射率层发挥功能的第2层(13)。通过相同的方法形成包括碳氢膜(16)的第3层(14)、包括MgF2膜(17)的第4层(15)。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜(16)以及MgF2膜(17)。在成膜碳氢膜(16)时,将氩和氢的混合气体供给至真空槽(22),将膜中的一部分C??C键取代为C??H键。通过氢化而切断一部分C??C键,从而能够释放通过C??C键积存的应变即应力。可以获得粘附性优异并且无膜破坏的防反射膜(10)。

权利要求书

1.一种防反射膜,其设置于包括硫属化物玻璃的基材的表面,从所述基材侧依次具有
多个层,
与所述基材接触的第1层包括碳氢膜。
2.根据权利要求1所述的防反射膜,其中,
所述碳氢膜的含氢率ch在0[at.%]<ch≤6.1[at.%]的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的防反射膜,
所述防反射膜具有第2层,所述第2层层叠于所述第1层,折射率低于所述第1层的折射
率。
4.根据权利要求3所述的防反射膜,
所述防反射膜交替地具有多个所述第1层以及所述第2层。
5.根据权利要求3或4所述的防反射膜,其中,
所述第2层的波长10.5μm中的折射率为1.5以下。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的防反射膜,其中,
所述第2层包括MgF2膜。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜,其中,
所述碳氢膜通过在含有H2的气体气氛中对碳靶进行溅射处理而成膜。
8.一种硫属化物玻璃透镜,其具有权利要求1至7中任一项所述的防反射膜。
9.一种摄像装置,其具有至少1片权利要求8所述的硫属化物玻璃透镜。

关 键 词:
反射 透镜 以及 摄像 装置
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